R-0105集成电路LPCVD工艺用高阻高纯硅材料部件技术研发与应用

技术需求简介：

需求概况：

研发一种采用集成电路LPCVD工艺用高阻高纯硅材料部件，另可用各向同性的方式实现有效清洗。

主要技术指标：

1、产品使用高电阻、高纯度(纯度7N以上)多晶硅材料加工而成;

2、通过分析沉积多晶硅与硅本体间的差异性，找出可通过化学处理的方式去除沉积层;

3、通过引入阻挡层(如氮化硅、氧化硅、碳化硅)的技术方案，实现硅舟本体与沉积多晶硅的阻隔，从而得到化学去除的先前条件。

联系人：范老师