R-0025半导体用超高纯气体制备关键技术和装备的研发

技术需求简介：

重点描述企业需要解决的问题及主要技术指标、配套条件：

一、需解决的主要技术问题：

  1、纯化器内部的纳米级限流孔板的设计和制备需要关键核心技术和超高精度的控制精度；

  2、大流量型纯化器的毛细血管换热装置的设计、制备、焊接工艺技术需要达到精细化和高精度的技术要求。

 二、实现的主要技术目标：

  1、精准地控制再生气体配比，使纯化物料再生效果达到最佳，纯化效果达到 12N 级别（国际最高标准）；

  2、减少纯化器内部压损，换热效率提高 20%，设备尺寸缩小 15%。

联系人：范老师