R-0027 半导体20-14nm先进制程用超纯八甲基环四硅氧烷及其包装容器的开发和产业化

技术需求简介：

重点描述企业需要解决的问题及主要技术指标、配套条件：

一、需解决的主要技术问题：

1. 超纯八甲基环四硅氧烷的纯化技术。公司引进的团队在超纯前驱体纯化领域拥有多年的研发和生产经验，他们有研发量产大于9N的超纯产品，并批量应用终端客户。原料经过吸附预处理，除去一部分杂质，然后进行精馏，精馏系统

采用全316L不锈钢材质的产线系统，去除轻组分有机杂质，然后接收合格产品。 技术参数： 超纯OMCTS:纯度≥7.5N, Al≤1ppb，钴≤1ppb，铁≤1ppb，锰≤1ppb，镍≤1ppb，锡≤1ppb，银≤1ppb；水＜10ppm； 

2.超纯八甲基环四硅氧烷的分析技术。超纯前驱体的分析不仅需要最高端的分析仪器，洁净的分析环境。还需要建立适用于半导体级产品的分析测试手段，公司将采购最高端的ICP-MS，GC和水分仪等分析仪器，并建立完整的ISO9001品质管控系统来保证产品的质量稳定性。

3.超纯八甲基环四硅氧烷的超净包装容器的制造技术。技术参数：加仑不锈钢储罐:内壁粗糙度Ra ≤0.1um;氦检漏率(真空法)≤1.0×10-9mbar·l/。氧含量≤0.3ppm;水份含量≤0.2ppm;颗粒度,颗粒≥0.1um,每立方英尺≤1个

联系人：范老师