R-0030经济高效的铝离子吸附剂及技术

技术需求简介：

重点描述企业需要解决的问题及主要技术指标、配套条件：

一、需解决的主要技术问题：

  公司正在发研发生产电子级高纯六氯乙硅烷（HCDS，Si2Cl6）,因其原料为多晶硅行业釜残，其中残留有大量的各类金属离子，尤其是铝离子含量高达1-2万ppb，我公司通过精馏等手段，可将成品中的铝离子含量降低到5-50ppb之间，但集成电路行业用电子级HCDS，需要铝含量小于1ppb。现考虑将原料或中间产品进行吸附除铝，需要找到合适的吸附铝离子材料和技术，经济且高效，去除率高。

 二、实现的主要技术目标：

 能将原料中铝离子含量从大于1万ppb吸附降低至50ppb以下， 或将中间产品中氯离子含量降低至5ppb以下，以利于精馏提纯进一步降低铝含量。

联系人：范老师