2025-01-22
技术需求简介：
成果概况：
本成果针对微电子领域，为小型化原子层沉积设备，可用于新材料的研发，也适用于高校的课程使用 。半导体技术快速发展，集成电路中的晶体管数目不断增加，使得沟道长度不断缩小，原子层沉积技术成为制备高介电栅介质层的不二之选，并已成为半导体研发生长中的一个重要技术。 主要技术指标、配套条件 1. 反应腔内径5cm长100cm； 2. 包含5路前驱体，其中2路为可加热源 ； 3. 生长温度为室温至500℃ 。 应用范围及应用案例 成果可应用于微电子、光电子、光学、纳米技术、微机械系统、 能源、催化、生物医用、显示器、耐腐蚀及密封涂层等领域。
联系人：范老师